等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質的一種狀態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化成等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等?？刂坪婉{馭這些活性組分聚集后的性能可進行各種各樣的表面處理，例如納米級別的清潔、活化表面的浸潤性、化學接枝、涂層沉積等。
       等離子體的高化學活性用來在不影響基材的情況下改變表面的性能。實際上可以控制這些部分離化的氣體所攜帶的能量，使之含有很低的“熱”能。實現的方法是通過把能量與自由電子而不是與更重的離子進行耦合，這樣便可以處理對熱量敏感的聚合物，例如聚乙烯和聚丙烯。能量是如何與氣體耦合的呢？大多數情況下是通過在低壓環(huán)境下在兩個電極間施加電場。這就像熒光燈的工作原理，唯一的區(qū)別是不讓光發(fā)出。我們支配他的化學性能來處理材料的表面。等離子體也可以在大氣壓力下產生。在過去，大氣壓等離子體溫度太高而不能作為表面處理的工具。最近，改進的技術可以在大氣壓力下產生低溫等離子體，可應用于大多數對溫度敏感的聚合物的處理。
       等離子清洗/刻蝕機產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起化學反應，不同氣體的等離子體具有不同的化學性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時會發(fā)出輝光，故稱之為輝光放電處理?！?nbsp;　　
       等離子體清洗的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子；產物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面。 　　
       等離子體清洗技術的最大特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。